フォトマスクは、ガラス基板の遮光膜に非常に微細な回路パターンを形成したもので、複雑な半導体の回路をシリコンウェハに焼き付けるときの原版です。半導体用フォトマスクのほか、各種研究・開発用ガラスマスクや、シリコンステンシルマスク、ナノインプリント用モールドなどを開発・製造しています。