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研究開発 RESEARCH AND DEVELOPMENT

研究紹介

半導体(フォトマスク) - 半導体製造用フォトマスク

半導体用フォトマスクとは、半導体チップの回路をシリコンウェハ上に転写する際 に用いられる回路原版です。

パソコンからタブレットへ、携帯電話からスマートフォンへと精密機器はますます便利になっています。これは機器に使用される半導体が常に進化しているからです。

トッパンは最先端半導体メーカーとの協業を積極的に進め、半導体用フォトマスクの微細加工技術に取り組んでいます。22nmのフォトマスクの製造プロセスを確立し、現在は14nm世代対応のフォトマスクの製造プロセスをIBMと共同で構築中です。

注)nm:ナノメートル。1nmは10億分の1m

半導体製造用フォトマスク

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半導体(フォトマスク)-半導体製造用フォトマスク

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