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印刷テクノロジー

製品・サービス検索結果

フォトマスクの検索結果85

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    ディスプレイ関連製品のご紹介 半導体関連製品のご紹介 エレクトロニクス部門情報 HOME 半導体関連製品のご紹介 その他フォトマスク/大型マスク コンテンツエリアはここからです。 トッパンは超微細加工技術を駆使して半導体向けのほか、LCD向けや、各種産業用・研究開発用などにも高精細で信頼性の高いフォトマスクを製造・販売しています。 用途 産業用、研究開発用など様々な分野での大型フォトマスクの需要に対応しています。 <供給実績例> 有機EL向けカラーフィルタ用マスク MEMS用マスク IC(バンプ)用マスク 半導体パッケージ用マスク マイクロレンズアレイ用マスク LED用マスク サーマルヘッド用マスク 装置精度管理用マスク テストチャート 高精細印刷用原版 各種研究開発用マスク ※その他、お気軽にご相談ください 【9"フォトマスク イメージ】 【FC-BGAパッケージ基板用 フォ...
    更新日:2017/11/18
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    ▶半導体関連INDEXオンチップカラーフィルタ半導体用フォトマスク大型フォトマスク(株式会社トッパン・テクニカル・デザインセンター)P5 P6 P8 LSIデザイン/LSIターンキーサービスナノインプリントソリューション半導体製造の前工程に不可欠な回路パターン原版であるフォトマスクや、LSIデザインサービス、イメージセンサ向けオンチップカラーフィルタなどのウェハプロセッシングサービス、後工程で使用される半導体パッケージ関連製品のほか、各種の金属エッチング部材も開発・製造しています。P9 P10 P11 P12リードフレームFC-BGAサブストレートエッチング応用製品カラーフィルタ大型テレビからスマートフォンまで幅広い用途向けに提供液晶ディスプレイをはじめ、さまざまなディスプレイの画質を左右する重要な部材がカラーフィルタです。トッパンでは、印刷の製版技術をベースとする超微細加工技術を応用し、...
    更新日:2017/05/31
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    ディスプレイ関連製品のご紹介 半導体関連製品のご紹介 エレクトロニクス部門情報 HOME 半導体関連製品のご紹介 フォトマスク コンテンツエリアはここからです。 フォトマスクはLSIなど集積回路の製造工程で使用される重要部材です。表面の遮光膜にごく微細な回路パターンをエッチングした透明なガラス板で、回路をシリコンウェハに焼き付けるときの原版になります。フォトマスク上のパターンをシリコンウェハ上に縮小露光することにより微細なパターンを形成します。 回路パターンデータを元に電子ビーム描画技術によってフォトマスク基板上にマスクパターンを形成し、その後エッチング・レジスト剥離・洗浄・測定・検査を経てフォトマスクが完成します。 トッパンは、1961年よりフォトマスクの製造を通じて半導体産業の発展を支えてきました。近年では、進展するLSIの微細化に対する位相シフトマスクや、次世代露光技術に対するフォ...
    更新日:2017/11/18
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    サイトマップ ホーム > ニュースリリース ニュースリリース検索 PDFファイルのみ対象とする 2017年 2016年 1月 2月 3月 4月 5月 6月 7月 8月 9月 10月 11月 12月 2015年 2014年 2013年 2012年 2016年02月24日 凸版印刷、最先端半導体に対応した次世代EUVフォトマスクを開発 ~世界初、周辺への不要な光の反射を抑え、パターン周辺部分の微細化を実現~ 凸版印刷株式会社(本社:東京都千代田区、代表取締役社長:金子眞吾、以下 凸版印刷)は、次世代半導体製造技術であるEUV露光(※1)において、周辺部への不要な光の反射を抑え、最先端半導体に対応した次世代EUVフォトマスクを開発しました。 2016年度内に半導体メーカーへのサンプル出荷を行うとともに、2017年度の本格的な量産を開始する予定です。今後、本技術を活用し次世代EUVフォトマ...
    更新日:2016/02/24
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    ディスプレイ関連製品のご紹介 半導体関連製品のご紹介 エレクトロニクス部門情報 HOME 半導体関連製品のご紹介 フォトマスク 半導体用フォトマスク コンテンツエリアはここからです。 バイナリーマスク バイナリーマスクとは単純な遮光膜のパターンのみで形成されるマスクです。単純に光を透過する/遮断するという機能のみのマスクで、主として露光波長以上の太さのパターン形成に用いられます。 また、先端のハーフピッチ32nm以細の液侵露光においては、ハーフトーン形位相シフトマスクと比較してバイナリマスクの方に優位性がある事が分かりました。凸版印刷はブランクスベンダーと共同開発により、より加工性の高い新型バイナリブランクス(OMOG:Opaque MoSi on Glass)を開発、寸法精度および解像性の高いバイナリーマスクの作成を可能にしました。 PAGE TOP 位相シフトマスク 位相シフトマスク...
    更新日:2017/11/18
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    サイトマップ ホーム > 研究開発 > 研究紹介 > 半導体(フォトマスク) 概要 研究紹介 光学セキュリティ部材 CMS系要素技術 透明バリアフィルム 半導体(フォトマスク) 医療・医薬系支援部材 燃料電池用部材 技術情報 開発拠点 研究紹介 半導体(フォトマスク) - 半導体製造用フォトマスク 半導体用フォトマスクとは、半導体チップの回路をシリコンウェハ上に転写する際 に用いられる回路原版です。 パソコンからタブレットへ、携帯電話からスマートフォンへと精密機器はますます便利になっています。これは機器に使用される半導体が常に進化しているからです。 トッパンは最先端半導体メーカーとの協業を積極的に進め、半導体用フォトマスクの微細加工技術に取り組んでいます。22nmのフォトマスクの製造プロセスを確立し、現在は14nm世代対応のフォトマスクの製造プロセスをIBMと共同で構築...
    更新日:2017/11/18
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    ディスプレイ関連製品のご紹介 半導体関連製品のご紹介 エレクトロニクス部門情報 HOME 半導体関連製品のご紹介 フォトマスク フォトマスクの製造工程 コンテンツエリアはここからです。 高い精度で研磨された高純度合成石英ガラス基板の上に、クロム等を蒸着させて厚さ数十ナノメートル程度の遮光膜を形成したものをフォトマスクブランクスと呼びます。 フォトマスクブランクスの表面にレジスト(感光性樹脂)を均一に塗布し、電子ビームを用いて回路パターンを描画します。 電子ビームによって露光されたレジストを除去します(レジストの種類によっては、露光しなかった部分が除去される場合もあります)。 遮光膜が露出した部分を反応性ガスによる化学反応(ドライエッチング)を用いて加工します。 最後にレジストを除去及び洗浄を行ってフォトマスクは完成します。この後、検査工程などを経て出荷します。 サブコンテンツエリアはここ...
    更新日:2017/11/18
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    ディスプレイ関連製品のご紹介 半導体関連製品のご紹介 エレクトロニクス部門情報 HOME ディスプレイ関連製品のご紹介 ディスプレイ用大型フォトマスク コンテンツエリアはここからです。 カラーフィルタのパターン形成に使用する大型フォトマスクです。 ディスプレイの高精細化や大型化にともない、フォトマスクに高い精度が求められています。 トッパンは半導体用フォトマスクで培ってきた超微細加工技術を駆使し、高精細で信頼性の高いディスプレイ用大型フォトマスクを製造・販売しています。 【第8世代向け大型フォトマスクフォトマスクの種類 単純に光を透過する/遮断するという機能のみのマスクで、主として露光波長以上の太さのパターン形成に用いられます。 光量透過を制御することで、3次元構造を形成することが可能です。グレースケールマスクあるいは3Dマスクとも呼ばれています。 主な仕様 ■マスクサイズ 228....
    更新日:2017/11/18
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    サイトマップ ホーム > ニュースリリース ニュースリリース検索 PDFファイルのみ対象とする 2017年 2016年 2015年 1月 2月 3月 4月 5月 6月 7月 8月 9月 10月 11月 12月 2014年 2013年 2012年 2015年04月24日 凸版印刷、中国・上海で半導体用フォトマスクの製造ライン増強に着手 ~中国半導体市場の急速な市場成長を見越し、中国でのフォトマスク生産力を増強~ 凸版印刷株式会社(本社:東京都千代田区、代表取締役社長:金子眞吾、以下 凸版印刷)は、急速に拡大する中国での半導体用フォトマスク市場に対応するため、半導体用フォトマスクの製造を手掛けるトッパンフォトマスクス インク(所在地:米国テキサス州、英文名: Toppan Photomasks, Inc.、以下TPI)の子会社である上海凸版光掩模有限公司(所在地:中国上海市、英文名:T...
    更新日:2015/04/24
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    半導体製造の前工程(ウェハ工程)に不可欠な回路パターン原版であるフォトマスクや、LSIのデザイン(設計)サービス、CCD/CMOSイメージセンサ向けオンチップカラーフィルターなどのウェハプロセッシングサービス、後工程(パッケージング工程)で使用されるリードフレームやFC-BGAサブストレートなどの事業のほか、フォトリソグラフィー技術を応用して各種の金属エッチング部材も開発・製造しています。 フォトマスク その他フォトマスク/大型マスク LSIデザイン・ターンキー・試作 ナノインプリントソリューション オンチップカラーフィルタ 半導体パッケージ エッチング応用製品 サブコンテンツエリアはここからです。 フォトマスク フォトマスクの製造工程 半導体用フォトマスク バイナリーマスク 位相シフトマスク EUVマスク シリコンステンシルマスク その他フォトマスク/大型マスク トッパンテストチャート...
    更新日:2017/11/18

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