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2016年11月01日

凸版印刷とSCIVAX、ナノインプリント事業で資本業務提携
~両社の技術を融合し、世界初となる大面積ナノインプリント量産化を目指す~
凸版印刷株式会社
SCIVAX株式会社

 凸版印刷株式会社(本社:東京都千代田区、代表取締役社長:金子眞吾、以下凸版印刷)とSCIVAX株式会社(本社:神奈川県川崎市、代表取締役社長:田中覚、以下SCIVAX)は、急速にそのニーズが増加しているナノインプリント事業の拡大を目的として、資本業務提携を行うことで合意しました。
 このたび、凸版印刷は同技術の開発で世界唯一、成功を収めているSCIVAXへ出資し、2016年11月中にSCIVAXの株式を25%超取得し筆頭株主になります。凸版印刷はナノインプリント事業に本格参入します。

 両社は、凸版印刷が半導体用フォトマスクなどで培ったリソグラフィー技術やマスターモールド製造技術と、SCIVAXが持つ光学設計やナノインプリント加工技術を融合し、アプリケーション開発からマスターモールドの製造、最終製品の量産化まで一貫したサービスの提供を共同で開始します。
 さらに凸版印刷は、光学デバイスやSCIVAXの独自開発製品の量産化ニーズに対応するため、生産ラインを構築、2017年中に大面積ナノインプリントのサンプル出荷を開始します。

Sample
ナノインプリント法(左)と微細構造体製造プロセス(右)

■背景
 ナノインプリント技術は、ナノ(10億分の1メートル)オーダーのパターンを形成したモールドを用いて、樹脂などの被転写材料に押し付けて微細な構造体を製造する転写技術です。半導体製造などで使用されているフォトリソグラフィー技術による製造方法よりも安価に生産できることから、レンズアレイなど光学デバイスやディスプレイ、バイオ・医療用途など、幅広い分野での活用が期待されています。
 SCIVAXは独自に開発したナノインプリント技術をベースに、様々な分野においてナノインプリント受託加工サービス(ナノインプリントファウンドリー)を世界で唯一、展開。現在、多数の実用化案件を受託しています。すでにウェハ加工を中心に複数の案件で量産受託製造を開始し、その実績は広く認められています。
 凸版印刷は、半導体用フォトマスクや、シリコンステンシルマスクなどの光学設計技術や超微細加工技術をベースにマスターモールドの製造を行なっています。また、液晶用カラーフィルタを世界各国の液晶パネルメーカーに提供するなど、大面積ガラス基板加工技術を保有しています。
 この提携により、両社は大面積ナノインプリント量産技術の開発を加速させ、アプリケーションの開発から試作、量産までをトータルに提供するビジネスモデルを構築します。

■想定用途
・光学デバイス向けレンズアレイ、回折光学素子:具体的な活用事例としては静脈認証などセキュリティ
・ワイヤグリッド偏光板:具体的な活用例としてはTVやモバイル、車載向けディスプレイ
・バイオ、医療向け解析チップ:具体的な活用例としては細胞培養シート、DNA解析チップ

■今後の展開
 凸版印刷は、今回の資本業務提携により、光学設計からモールド、インプリント工程までの一貫した生産体制の構築を目指します。特に、世界初となる大面積ナノインプリント量産技術を確立し、様々な分野への応用展開を図り、事業拡大を推進します。また凸版印刷が、欧米、アジアなど世界各国に持つ販売ネットワークを活用することで、海外のお客さまのニーズにも対応し、グローバルな事業展開を図ります。
 SCIVAXは2014年から2015年にかけて株式会社産業革新機構、KISCO株式会社などから出資を受け、ナノインプリント受託加工サービスの事業化に成功しました。またSCIVAXが独自に開発した大面積一括成型加工技術については、凸版印刷との提携により、量産化に向けた技術開発を加速させます。
 両社は本提携により、光学設計シミュレーションによる構造提案や独自製品の開発を進めるとともに大面積ナノインプリント量産技術を実用化し、2020年度に約200億円の売上を目指します。


*本ニュースリリースに記載された会社名および商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
*本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。

以上

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